課程大綱： Zemax 中設計光譜儀培訓
在本學習路徑內，您將學習如何在軟件中設計建模光譜儀系統。
光譜儀作為一種非侵入性技術手段，是研究生物組織、等離子體和材料的有力工具之一。
本學習路徑將從一個理想的光譜儀開始，解釋衍射光柵背后的理論。
然后，您將學習如何實現真實光學設計。一旦設計就緒，您將學習如何進行公差分析以及雜散光分析。
從這里開始：
如何設計光譜儀 - 理論依據
本文介紹了如何使用近軸光學元件建模 “透鏡-光柵-透鏡 (LGL) ” 形式的光譜儀系統。
文中結合了多重結構、評價函數以及 ZPL 宏等多種高階 OpticStudio 應用功能，
從參數需求至后的性能評價角度綜合闡述了完整的設計流程。
如何設計光譜儀 - 實際應用
本文介紹了如何使用商業通用的光學元件實際設計建模 “透鏡-光柵-透鏡 (LGL) ” 形式的光譜儀。
文中分別介紹了如何設置光譜儀系統以及如何提升和優化設計的系統性能。
如何設計光譜儀 - 公差分析
本文介紹了如何在 OpticStudio 中對 “透鏡-光柵-透鏡 (LGL) ” 形式的光譜儀進行公差分析，
以及如何對系統裝配或加工中出現的誤差進行公差補償。
如何設計光譜儀 - 雜散光分析
本文介紹了如何將光譜儀系統從序列模式轉換至非序列模式，
并在對系統進行了簡單的封裝后量化分析了機械封裝元件的散射光情況以及光譜儀探測器的雜散光污染情況。
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